Описание

Устройство для измерения параметров тонкопленочных элементов, позволяющее увеличить чувствительность устройства к неравномерности параметров тонкопленочных элементов по площади подложки в процессе их осаждения. Проведен патентный поиск по следующим странам: США, Россия, Франция, Германия, Япония. Ретроспективность поиска 1965 – 1985гг. Содержит 8 документов.

Пожалуйста, оставьте это поле пустым.

Не пропустите эту рассылку!

Мы не спамим! Прочтите нашу политику конфиденциальности, чтобы узнать больше.

Проверьте ваш почтовый ящик или спам, чтобы подтвердить свою подписку.